Seestar S50 Dew/Light Shield có Baffles (Chắn sương/ánh sáng)
Bộ dew/light shield cho Seestar S50 gồm bản có baffles và bản thường/narrow. Thiết kế tối ưu chiều dài 75mm, collar ngắn không chạm lens, baffles không lọt light path, kèm file test fit và Bahtinov mask (STL).
Mô tả
Xài cái này một thời gian thì thấy vẫn ổn, nhưng mình nghĩ cái shield có baffles không hữu dụng như mình đoán. Ngay cả mấy phần nhựa “phẳng” cũng hơi bóng, nên thật ra phải sơn hoặc dán felt flocking thì mới ổn, vậy chắc làm cái dew shield thường rồi flocking luôn sẽ dễ nhất.
Nếu bạn thật sự thích thử thách thì có thể thử flocking cái shield có baffles… chúc may mắn.
Mình có xem qua vài mẫu light/dew shield khác mà không thích một số lựa chọn thiết kế của họ, nên mình tự thiết kế vài cái để khắc phục những điểm mình thấy còn thiếu.
Các shield này được tính theo chiều dài thường được khuyên là 1.5x đường kính objective cho dew/light shield (75mm), có phần collar ngắn hơn để không chạm vào objective lens, các baffles không lấn vào đường đi của ánh sáng (light path), và collar được làm mỏng nhất trong mức mình thấy còn thực tế để giảm mất khẩu (aperture loss) xuống thấp nhất (mất 2.5mm khẩu, tổng aperture còn 47.5mm).
Khi in bản shield có baffles, bạn phải chọn hướng nào là hướng “lên”. File project .3mf để đầu mở quay xuống, như vậy support sẽ quay ra ngoài. Mình bẻ support ra khá sạch, nhưng cũng có thể bạn sẽ không được như vậy, và chuyện này có thể gây phản xạ (reflections). Nếu bạn in theo kiểu để collar quay xuống, phần support còn dư sẽ nằm ở mặt sau của baffles có thể sẽ tốt hơn, nhưng thời gian in lâu hơn và tốn vật liệu support nhiều hơn. Các shield không có baffles thì chắc nên in collar quay xuống để giảm support, nhưng tùy bạn. Giả sử bạn sẽ sơn lại thì hướng in chắc cũng không quá quan trọng.
Bản narrow dùng chung collar, nhưng đường kính trong (ID) của ống shield được giảm xuống bằng với bản có baffles. Đường kính ngoài (OD) cũng giảm theo, vì tội gì phí vật liệu.
Model test size chỉ là phần collar để bạn thử độ vừa trước khi quyết định in nguyên cái.
Project .3mf có sẵn các setting mình dùng với MK4 và cho kết quả tốt; support kéo ra dễ, dù phải gỡ khá nhiều, và gỡ từ phía mặt in ở trên cùng sẽ tiện nhất. Với ai không dùng được .3mf: Nozzle - 0.4 Layer Height - 0.2 Structural Perimeters - 3 Generate Supports - Yes Support Style - Organic Top Interface Layers - 0 (off) - Mình thấy 0 lớp cho kết quả tốt nhất, nhưng tùy máy/tùy người (YMMV) XY Separation - 500% - Có thể hơi quá tay, nhưng giữ support tránh xa baffles nên gỡ sạch hơn Don't Support Bridges - Checked - Kết quả tốt nhất là không support bridges; chúng chỉ cỡ 1mm hoặc vậy
Nếu bạn dùng aligned seams, nó sẽ tạo một cái “nub” nhỏ nhìn gọn và giúp fit khít hơn. Như thường lệ, vật liệu của bạn có thể co ngót nhiều/ít hơn loại mình dùng, nên có thể cần chỉnh XY size, hoặc chà nhám nhẹ phần ngoài của collar để vừa nhất. Mình dùng PLA loại matte, nhưng vẫn phải sơn ít nhất là mép của baffles bằng sơn đen nhám (flat black) tốt để giảm reflections. Chà nhám nhẹ mép baffles cũng giúp loại bỏ các “gai” nhọn do sai số in và do support.
Autofocus của Seestar hoạt động rất ngon, nhưng một số người vẫn thích Bahtinov mask, nên mình có kèm một cái. Mask được thiết kế bằng: https://skeye.rocks/tools/mask/ Slit pitch (1.95) được tạo dựa trên đường kính 50mm và focal length 250, vì Seestar là như vậy. Đường kính mask thực tế dựa trên size dew shield lớn. Nếu bạn dùng bản narrow thì bạn sẽ phải tự làm Bahtinov mask của riêng bạn. Mình fit được khá khít mà không cần hậu xử lý, nên nếu bạn không đổi XY % của shield thì mask cũng sẽ ra giống vậy.
Thông số mask mình dùng: Mask Type - Bahtinov Output - 3D (STL) Mask Diameter - 59 - Nên là 57 nếu bạn dùng bản narrow Rim Width - 1 Aperture - Default Focal Length - 250 Slit Pitch - Custom, 1.95 Partition Scale - 1 Central Obstruction - No Height - 2 Flange - Yes Flange Width - 3mm - 2mm chắc cũng ổn Flange Height - 10mm - Có thể làm ngắn hơn, chắc khoảng 5mm
Giấy phép
File mô hình
Chưa có bản in nào được khoe. Hãy là người đầu tiên!
Chưa có bình luận nào. Hãy là người đầu tiên!